R&D

차별적인 핵심역량을 바탕으로 글로벌 리딩기업으로 성장하고 있습니다.

연구소 소개

전자재료 산업발전에 핵심이 되는 기술개발에 힘쓰고 있습니다.

디엔에프 연구소는 2003년 기업부설연구소로 출범하여, 2005년 CVD(Chemical Vapor Deposition, 화학기상증착 공정)용 Al 배선재료 개발성공을 시작으로, 2012년에는 전량 수입에 의존하던 DPT(Double Patterning Tech.) 공정의 필수 소재인 DIPAS 제품을 국내 최초로 국산화 양산에 성공했습니다. 이후로 미세화 공정 소재인 DRAM 커패시터용 고유전체 High-k 개발에 성공하며 국내 반도체 산업발전과 공급 안정화에 기여하고 있습니다.

지속적인 기술혁신과 차세대 핵심소재 확보를 위해 전문인력으로 구성된 연구조직을 운영하고 있으며, 반도체, 디스플레이 제조사 및 장비회사와의 공동개발, 독자적 기술 보유 등을 통해 재료의 국산화, 수출증대, 국내외 전자재료 산업발전에 기여하기 위해 노력하고 있습니다.